半導体製造のＰＦＡＳフリー化 光酸発生剤と撥水ポリマーで セントラル硝子
セントラル硝子は２月21日、半導体製造でシリコンウエハを液体に沈めて加工する工程に使うＡｒＦ液浸レジスト材料について、光酸発生剤と撥水ポリマーに有機フッ素化合物（ＰＦＡＳ）を使用しない手法を開発したと発表した。
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